實驗室小型涂布機

實驗室小型涂布機是同德公司的新型實驗室用涂布機，自投放市場以來深厚廣大用戶的依賴、好評。實驗室涂布機 *代替了人工涂膜的不準確性和繁瑣的實驗過程，減少了人為因素造成的誤差，大大節(jié)省了涂膜時間。目前公司在原型號涂布機進行升級改進，根據(jù)不同客戶需 求，專業(yè)訂制。實驗室涂布機從原來的線棒式涂布機，再到刮刀式涂布機、數(shù)顯式涂布機、智能加熱、真空式涂布機、小型連續(xù)涂布機等，本公司堅持以質(zhì)量求生 存，以信譽求發(fā)展，以用戶為上帝，以務(wù)實為人品的宗旨。全心全意地為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和熱情周到滿意的服務(wù)?！　?strong> 

 
可調(diào)速度涂布機.通過控制速度和壓力來保證涂布效果.
1.涂布底座尺寸：     570mm×360mm
2.有效涂膜尺寸：      長430mm 寬320mm
4.涂布速率：         0～2cm/s無變速
5.總功率：           48W
6.電源：             220V 50Hz  （直流24V）
7.外形尺寸：         570mm×370mm×140mm(長×寬×高)
8.重量：            約20Kg

本公司現(xiàn)在面向全國誠征代理商 ：
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產(chǎn)品名稱：電動式切軌機  產(chǎn)品型號：QG2-Ⅰ

電動式切軌機 型號：QG2-Ⅰ 

　　該產(chǎn)品采用活節(jié)擺動夾緊裝置為上道定位體，主機與活節(jié)軸配連形成一體的結(jié)構(gòu)形式，可實現(xiàn)快速切割各種型號的鋼軌，其優(yōu)點是體積小、重量輕、無噪音、低消耗、性能穩(wěn)、使用安全簡便、操作靈活輕便、切軌精度高和切軌速度快等。特別適用于鐵路各線路施工單位在線路上進行切軌使用。 

產(chǎn)品名稱：太陽自動跟蹤直接輻射表 直接輻射表 太陽輻射表 太陽自動跟蹤輻射表  產(chǎn)品型號：TBS-2-2

太陽自動跟蹤直接輻射表 直接輻射表 太陽輻射表 太陽自動跟蹤輻射表 型號： TBS-2-2   
一、產(chǎn)品用途  
直接輻射表是用來測試太陽直接輻射量的輻射儀表，它配有控制器，可交直流兩用，如果交流220v突然斷電，可直接自動切換到蓄電池供電，電壓是12v。該表用于測量光譜范圍為0.3μm-3μm的太陽直輻射量。也可用來測量太陽的日照時數(shù)，（日照時數(shù)定義：太陽直接輻照度達到或過120W/m2時間段的總和，以小時為單位，取一位小數(shù)。日照時數(shù)也稱實照時數(shù)。）廣泛適用于各類型太陽能研究單位及環(huán)境、林業(yè)、農(nóng)業(yè)、交通、建筑等部門。 
  
二、結(jié)構(gòu)及原理 
該表構(gòu)造如圖示，主要由光筒和自動跟蹤裝置組成。光筒內(nèi)部由光欄、內(nèi)筒、熱電堆(感應(yīng)面)、干燥劑筒等組成。感應(yīng)部件是采用繞線電鍍式多接點熱電堆，其表面涂有高吸收率的黑色涂層。熱接點在感應(yīng)面上，冷結(jié)點在機體內(nèi)，在線性范圍內(nèi)產(chǎn)生的溫差電勢與太陽直接輻照度成正比。自動跟蹤裝置是由底板、緯度架、電機等組成。電機是動力源，用戶可根據(jù)要求選擇直流電機或交流電機作為動力源。該表的跟蹤精度與操作人員細心的安裝和調(diào)試有密切關(guān)系，有關(guān)詳細說明見產(chǎn)品說明書。 
三、技術(shù)參數(shù) 
　　 靈敏度：7～14μv／w.m-2  
　　 響應(yīng)時間：≤30秒(99％)  
　　 內(nèi)阻：約100Ω  
　　 跟蹤精度：小于24h±1° 
　　 敞開角：4°  
　　 工作環(huán)境溫度：±45° 
　　 年穩(wěn)定度:不大于±2% 
　　 電源電壓：AC-220v，DC-12v 
　　 重量：2.5kg  
　　 測試范圍：O～2000W／m2  
 信號輸出：0～20mV　 
  
四、使用安裝與維護  
　　1．將直接輻射表的底板固定在觀測平臺上。調(diào)整水平，根據(jù)當(dāng)?shù)鼐暥却_定直接輻射表緯度盤緯度位置。  
　　2.根據(jù)使用說明書中時差表及當(dāng)?shù)亟?jīng)度計算出當(dāng)?shù)兀ㄕ嫣枙r），鈕動跟蹤裝置后鈕子開關(guān)跟蹤到確定位置后，再調(diào)回到自動跟蹤狀態(tài)。  
　　3．按使用說明書中赤緯角表調(diào)整光筒高低。  
　　4．確定底盤方向，使光筒上校正光點重合，再把底盤固定 
牢固。  
　　5．以上步驟可反復(fù)操作，直至使光筒上校正光點重合。